脉冲压缩光栅对性能要求高——除了严格的平整度和损伤阈值要求外,还须在高真空环境下运行。在如此严苛的条件下,多达 40 层的镀膜须严格控制,因为过大的压应力会导致基底变形,而过大的拉应力则会导致“龟裂”。PGL开发了一种用于 MLD 光栅的低应力镀膜工艺,该工艺可在大面积范围内实现均匀性,并在各种运行条件下均能提供综合性能。
PGL的MLD光栅展现出高的衍射效率和损伤阈值。我们的米级光栅在1级衍射中始终保持96%以上的衍射效率,并且在600 fs和10 ps脉冲宽度下均实现了高的激光损伤阈值(LIDT)——这些结果是MLD光栅迄今为止所达到的高水平之一。
PGL在光栅制造、薄膜光学镀膜、反应离子刻蚀、光学计量以及大型光学元件的清洗、检测和处理方面拥有丰富的专业知识。所有这些工艺领域对于高性能MLD衍射光栅的制造都至关重要。
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产地 |
美国 |
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光栅类型 |
反射式 |
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衍射效率 |
典型值 95 – 98% |
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波前误差 |
< λ/3(取决于尺寸) |
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激光损伤阈值 |
2.5 J/cm² @1054 nm,10 ps |
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带宽 |
典型值 30 – 40 nm |
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镀膜工艺 |
低应力 |
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脉冲宽度 |
600 fs和10 ps |
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裂纹 |
无(真空环境下) |
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镀膜 |
max.40 层 |
高强度激光系统中的脉冲压缩,尤其适用于脉冲宽度适中(0.5 – 10 ps)且在高真空条件下的激光系统
用于高平均强度激光器的光谱光束合成(SBC)