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产品介绍
PGL 2D光栅的高精度源于其纳米尺（Nanoruler），该纳米尺基于麻省理工学院（MIT）自主研发的SBIL（扫描光束干涉光刻）技术。纳米尺包含一个气浮XY平台，平台上安装有双轴DMI（数字干涉仪），并配备主动隔振系统，置于温度控制精度为±0.01°C的环境控制箱内。它能够扫描一束由外差相位参考干涉法主动稳定、并可实时调节条纹频率和方向的细小条纹，扫描范围覆盖任意方向的大尺寸基板。
这些特性，加上对基板尺寸无根本限制，使得PGL的SBIL工艺成为大型2D光栅的理想解决方案。
性能特点
- 优良的衍射波前误差
- 全孔径范围内高度均匀性
- 坚固的蚀刻结构
- 高的特征定位精度
- 可实现二维空间变化周期
技术参数
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产地 |
美国 |
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光栅类型 |
反射式或透射式 |
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衍射效率 |
多级 |
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波前误差 |
< λ/4（取决于尺寸） |
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激光损伤阈值 |
中-高（取决于类型） |
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带宽 |
低（通常为单波长） |
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空间变化周期 |
2D |
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温度控制精度 |
±0.01°C |
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隔振系统 |
主动 |
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数字干涉仪 |
双轴 |
产品应用
用于定位和计量的高精度标尺，尤其适用于对线性度和精度要求非常高的场合。
位移测量干涉仪 (DMI) 的替代方案。
苏州长显